Tango Onyx
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Onyx是占地面积非常小的紧凑型磁控溅射设备(PVD)。拥有独立的模块,提供所有必须的功能,包括DeGas,Pre-clean,溅射沉积及高真空自动传输腔体等。
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  • 基本配置
  • 产品优势
  • 产品应用
    • • 晶圆装载配置

    • - 单片式

    • • 腔体内靶材数量配置

    • - 单靶型

    • - 3个300mm靶材

    • • 主动冷却的旋转型晶圆装载台

    • - 降低工艺温度

    • - 通过减少冷却步骤来缩短镀膜时间

    • - Z轴可调

    • • 腔体

    • - TC - 传送腔,可配置1/2 接口

    • - LL - 晶圆装载腔

    • - PVD - 镀膜腔

    • - CCP

    • • 工艺套件

    • - EMI, RDl, TSV

    • • 可选,主动式背面冷却功能

    • - 低于100度加工温度

     

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    • 单片式溅镀机型

    • 业内小占地面积机型

    • 全自动片盒到片盒

    • 专为高性能研发和低产能生产而设计•单片式溅镀机型

    • 即插即用的设计,仅需极短的安装时间

    • 具有成熟工艺流程的D源磁控技术,可灵活沉积各种薄膜

    • Single layer, Multi-layer metals, oxides and semiconductors

    • Co-sputtered alloys of metals, oxides

    • RF or Pulsed DC or DC sputtering

    Delivering growth – in Asia and beyond.

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    大昌华嘉半导体光伏和电子