INDEOtec OCTOPUS II
INDEOtec OCTOPUS II
INDEOtec OCTOPUS II
OCTOPUS II是一款用于异质结高效电池(HJT)研发、试产的全自动薄膜沉积系统(PECVD)。使双面沉积变得简单,可提供始终如一的高质量薄膜。
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  • 基本参数
  • 产品优势
  • 产品应用
  • 研发用设备

    √占地面积小:3.25m x 3.6m (PECVD), 6.8m x 3.25m (PECVD + PVD)

    √并行或顺序处理模式(chamber-to-chamber)

    √Load -lock进料量高可达6个载盘 (每个载盘放置 4 片硅片)

    √In-situ cleaning PECVD

    试产用设备

    √自动/半自动可选

    √每个工艺模块都配有独立的电源、Match box和泵系统(启用并行工艺)

    √Load-lock进出可共用或独立(PVD可使用独立Load-lock)

    √预加热及冷却模块

    √R&D设备可升级为试产用设备

    专利镜面反应器概念

    抗交叉污染处理

    无需破真空

    无需翻转硅片

    占地面积小

    可定制模块

    PECVD

    √Semi-conducting Layers: a-Si:H, μc-Si:H, nc-Si:H, SiGe:H

    √AR and Passivation layers: SiNx, SiONx, AIOx, TiOx, MoOx


    PVD

    √TCO layers: ITO, AZO

    √Metal layers: Ag, Al, Cr


    Industires:

    √PV: Heterojunction cell devices

    √Optical coating: Filters (Bandpass, IR, UV, Color correction) etc.

    √Semi: MEMS

    Delivering growth – in Asia and beyond.

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