INDEOtec OCTOPUS II
OCTOPUS II是一款用于异质结高效电池（HJT）研发、试产的全自动薄膜沉积系统（PECVD）。使双面沉积变得简单，可提供始终如一的高质量薄膜。
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研发用设备
√占地面积小：3.25m x 3.6m (PECVD), 6.8m x 3.25m (PECVD + PVD)
√并行或顺序处理模式（chamber-to-chamber）
√Load -lock进料量高可达6个载盘 （每个载盘放置 4 片硅片）
√In-situ cleaning PECVD
试产用设备
√自动/半自动可选
√每个工艺模块都配有独立的电源、Match box和泵系统(启用并行工艺)
√Load-lock进出可共用或独立（PVD可使用独立Load-lock）
√预加热及冷却模块
√R&D设备可升级为试产用设备
专利镜面反应器概念
抗交叉污染处理
无需破真空
无需翻转硅片
占地面积小
可定制模块
PECVD
√Semi-conducting Layers: a-Si:H, μc-Si:H, nc-Si:H, SiGe:H
√AR and Passivation layers: SiNx, SiONx, AIOx, TiOx, MoOx
PVD
√TCO layers: ITO, AZO
√Metal layers: Ag, Al, Cr
Industires:
√PV: Heterojunction cell devices
√Optical coating: Filters (Bandpass, IR, UV, Color correction) etc.
√Semi: MEMS
Delivering Growth – in Asia and Beyond.
沪公网安备 31011502009866号
